全自动超高真空常温键合设备

型号:SAB6110

品牌:Dezisemi

分类:国产键合机

简述:SAB6110是一款专为半导体及异质材料键合设计的量产型设备,采用先进的常温键合技术,在超高真空环境下实现材料表面的原子级活化与直接键合,无需加热即可形成高强度共价键。该设备支持全尺寸兼容,配备自动化上料系统、独立镀膜腔体及高精度对准系统,确保工艺稳定性和高效产能,是实现大规模量产的理想选择。

核心产品特点

全自动化操作:配备完整的自动化上料系统,大幅减少人工干预,提高生产效率和一致性。

常温键合技术:在室温条件下完成键合过程,避免热应力对敏感材料的损害,保持材料的原有特性。

超高真空环境:在超高真空条件下进行键合,有效排除空气中的污染物,确保键合界面的清洁度和键合质量。

原子级活化与直接键合:采用先进的表面活化技术,实现材料表面的原子级清洁和活化,在室温下形成高强度共价键。

全尺寸兼容:支持多种尺寸的晶圆键合,满足不同产品的生产需求。

独立镀膜腔体:集成独立的镀膜功能,可在键合前后进行原位处理,提高工艺集成度和产品良率。

高精度对准系统:配备先进的对准系统,确保键合过程中的精确定位,提高键合精度和成品率。

工艺稳定高效:精密的控制系统和优化的工艺流程确保键合过程的稳定性、重复性和高产能。


应用领域

大规模半导体制造:适用于先进半导体器件的量产,包括逻辑芯片、存储器等的制造。

Chiplet集成技术:实现不同功能芯片的异质集成,提高系统性能和降低成本。

3D堆叠技术:用于3D NAND闪存、3D图像传感器等器件的制造,实现高密度集成。

MEMS批量生产:适用于MEMS器件的大规模生产,如加速度计、陀螺仪、压力传感器等。

异质材料集成:实现硅、化合物半导体、玻璃等不同材料之间的键合,为新型器件提供制造平台。

复合衬底制备:用于SOI、SiC等复合衬底的批量制备,满足高性能器件的需求。

光电子器件制造:适用于激光器、LED、探测器等光电子器件的量产。

参数/功能

性能规格

键合方式

常温键合

真空度

超高真空

兼容样品尺寸

全尺寸晶圆

自动化程度

全自动

上料系统

自动化上料

镀膜功能

独立镀膜腔体

对准系统

高精度对准

应用场景

量产

键合精度

高精度

产能

高效